Hafnija tetrahlorīds | HfCl4 pulveris | CAS 13499-05-3 | rūpnīcas cena

Īss apraksts:

Hafnija tetrahlorīdam ir nozīmīgs pielietojums kā hafnija oksīda prekursoram, organiskās sintēzes katalizatoram, kodolenerģijas pielietojumiem un plāno kārtiņu nogulsnēšanai, kas uzsver tā daudzpusību un nozīmi dažādās tehnoloģiju jomās.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Sūtiet mums e-pastu

Produkta informācija

Produkta tagi

Produkta apraksts

Īss ievads

Produkta nosaukums: Hafnija tetrahlorīds
CAS Nr.: 13499-05-3
Savienojuma formula: HfCl4
Molekulmasa: 320,3
Izskats: balts pulveris

Specifikācija

Prece	Specifikācija
Izskats	Balts pulveris
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Pieteikums

Hafnija dioksīda prekursorsHafnija tetrahlorīdu galvenokārt izmanto kā prekursoru hafnija dioksīda (HfO2) ražošanai — materiālam ar izcilām dielektriskām īpašībām. HfO2 plaši izmanto augstas k dielektriskās lietojumprogrammās tranzistoriem un kondensatoriem pusvadītāju rūpniecībā. HfCl4 ir būtisks modernu elektronisko ierīču ražošanā, pateicoties tā spējai veidot plānas hafnija dioksīda plēves.
Organiskās sintēzes katalizatorsHafnija tetrahlorīdu var izmantot kā katalizatoru dažādās organiskās sintēzes reakcijās, īpaši olefīnu polimerizācijā. Tā Lūisa skābes īpašības palīdz veidot aktīvus starpproduktus, tādējādi uzlabojot ķīmisko reakciju efektivitāti. Šis pielietojums ir vērtīgs polimēru un citu organisko savienojumu ražošanā ķīmiskajā rūpniecībā.
Kodolenerģijas pielietojumsPateicoties augstajam neitronu absorbcijas šķērsgriezumam, hafnija tetrahlorīds tiek plaši izmantots kodolenerģijas pielietojumos, īpaši kodolreaktoru vadības stieņos. Hafnijs var efektīvi absorbēt neitronus, tāpēc tas ir piemērots materiāls skaldīšanās procesa regulēšanai, kas palīdz uzlabot kodolenerģijas ražošanas drošību un efektivitāti.
Plānas plēves nogulsnēšanāsHafnija tetrahlorīdu izmanto ķīmiskās tvaiku uzklāšanas (CVD) procesos, lai veidotu plānas hafnija bāzes materiālu plēves. Šīs plēves ir būtiskas dažādos pielietojumos, tostarp mikroelektronikā, optikā un aizsargpārklājumos. Spēja uzklāt vienmērīgas, augstas kvalitātes plēves padara HfCl4 vērtīgu progresīvos ražošanas procesos.